Caută în știri
2 rezultate pentru „photomask”
- 09:10hardwareTSMC, Samsung și Intel susțin dezvoltarea de către ASML a fotomăștilor High-NA EUV de 6x12 inch, dar tranziția ar putea dura aniProducătorii majori de cipuri, TSMC, Samsung și Intel, colaborează cu ASML pentru a dezvolta fotomăști mai mari de 6x12 inch pentru litografia High-NA EUV. Această inițiativă vizează permiterea producției de procesoare mai mari și mai complexe, fără a fi necesară îmbinarea mai multor fotomăști mai mici.
- 08.09 · 09:05hardwareIntel procesează un milion de napolitane High-NA EUV, lider în industrie cu tehnologie avansată de fotomascăIntel a atins un prag important, procesând un milion de napolitane folosind litografia High-NA EUV, depășind restul industriei. Compania este, de asemenea, pionieră în utilizarea mastilor fotolitografice mai mari de 6x12 inch pentru a spori eficiența producției și a reduce costurile în fabricarea semiconductorilor.